缺陷檢測(cè)、污漬檢測(cè)或集成ic檢測(cè)全是十分典型性的工業(yè)視覺(jué)系統(tǒng)檢測(cè)的運(yùn)用方法。依據(jù)鋼件和生產(chǎn)流水線的情況不一樣，每個(gè)檢測(cè)都必須不一樣的作用。視覺(jué)污點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備使用原理與工具方法。

1、區(qū)段

視覺(jué)識(shí)別系統(tǒng)穿透CCD圖像傳感器將強(qiáng)度材料的轉(zhuǎn)變檢測(cè)為污點(diǎn)或邊沿。可是，逐一解決清晰度必須花銷(xiāo)很多的時(shí)間，而且噪音會(huì)對(duì)檢測(cè)結(jié)果造成危害。因而，視覺(jué)識(shí)別系統(tǒng)應(yīng)用由多個(gè)清晰度構(gòu)成的小地區(qū)的均值強(qiáng)度，該小地區(qū)被稱(chēng)作“區(qū)段”，并穿透較為這種區(qū)段的均值強(qiáng)度來(lái)檢測(cè)污點(diǎn)。

如圖中圖示將區(qū)段(4 x 4 清晰度)的均值強(qiáng)度與周邊城市的均值強(qiáng)度來(lái)做比較，圖中的鮮紅色區(qū)段被檢測(cè)出污點(diǎn)。

2、污點(diǎn)檢測(cè)專(zhuān)用工具的優(yōu)化算法(區(qū)段的較為和計(jì)算方法)

檢測(cè)原理：

根據(jù)客戶的實(shí)際需求，提出了藥片缺陷檢測(cè)的總體設(shè)計(jì)方案。如圖1所示，因藥片表面為弧形，實(shí)驗(yàn)中需要整個(gè)視野內(nèi)光照均勻，并能夠檢測(cè)到藥片表面的臟污及缺損。采用球狀分布式對(duì)稱(chēng)無(wú)影光源，此光源采用特制漫射板將光散射到不同方向，形成漸變球狀分布，使得整個(gè)球面目標(biāo)不同坡度的反光強(qiáng)度都一致，視覺(jué)污點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備使用原理與工具方法。

(1)將 X 方位特定為檢測(cè)方位時(shí)：

污點(diǎn)檢測(cè)專(zhuān)用工具精確測(cè)量特定地區(qū)(區(qū)段)的均值強(qiáng)度，并且以四分之一個(gè)區(qū)段為間隔更改區(qū)段部位。

它可明確四個(gè)區(qū)段中的*和最少?gòu)?qiáng)度中間的差值，主要包括規(guī)范區(qū)段(下面的圖中的①95)。該差值被稱(chēng)作規(guī)范區(qū)段的污點(diǎn)級(jí)別。

當(dāng)污點(diǎn)級(jí)別超出當(dāng)今閥值時(shí)，規(guī)范區(qū)段被稱(chēng)作污點(diǎn)。被測(cè)地區(qū)中超出預(yù)置閥值的頻次被稱(chēng)作“污點(diǎn)范疇”。該全過(guò)程不斷開(kāi)展，進(jìn)而持續(xù)更改規(guī)范區(qū)段在被測(cè)地區(qū)中的部位。

(2)將 X 和 Y 方位特定為檢測(cè)方位時(shí)

以規(guī)范區(qū)段為參考系，測(cè)算 X 和 Y 方位上的16個(gè)區(qū)段的*強(qiáng)度和最少?gòu)?qiáng)度的差值。根據(jù)較為所有 16 個(gè)區(qū)段，而不僅僅僅 X 方位上的 4 個(gè)區(qū)段，可檢測(cè)更微小的強(qiáng)度轉(zhuǎn)變(污點(diǎn))。

在環(huán)形鋼件上檢測(cè)污點(diǎn)的原理

PET 瓶、滾動(dòng)軸承或O型圈等幾種環(huán)形鋼件必須對(duì)環(huán)形地區(qū)開(kāi)展視覺(jué)檢測(cè)。當(dāng)檢索環(huán)形地區(qū)時(shí)，程序流程另外實(shí)行極坐標(biāo)變換。以便檢測(cè)污點(diǎn)，它將環(huán)形對(duì)話框(檢測(cè)區(qū)段)變換為正方形，并在環(huán)形方位和半經(jīng)方位上較為區(qū)段的強(qiáng)度。